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J-GLOBAL ID：201802248140285966   整理番号：18A1698343

パルスレーザー堆積法によるFe₂Mo₃O₈エピタキシャル膜の合成

著者 (6件)： 毛司辰 (東大 大学院) ,  片山司 (東大 大学院) ,  近松彰 (東大 大学院) ,  安井伸太郎 (東京工大) ,  伊藤満 (東京工大) ,  長谷川哲也 (東大 大学院)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 79th  ページ： ROMBUNNO.19p-133-9  発行年： 2018年09月05日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *磁気電気効果 ,  *エピタクシー ,  パルスレーザ蒸着 ,  結晶構造 ,  X線回折 ,  磁気秩序 ,  磁力計 ,  基板 ,  歪 ,  温度依存性 ,  磁化 ,  フェリ磁性 ,  反強磁性 ,  強誘電体 ,  モリブデン酸塩 ,  鉄化合物 ,  誘電体薄膜 ,  SQUID磁力計 ,  圧縮歪
準シソーラス用語： 基板効果

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y)

タイトルに関連する用語 (2件)： パルスレーザー堆積法 ,  エピタキシャル膜