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J-GLOBAL ID：201802248288016101   整理番号：18A1104756

赤外収束加熱浮遊帯法に基づくルチル結晶の成長に及ぼすミラーランプ系の位置効果【JST・京大機械翻訳】

Position effects of mirror-lamp system on the growth of rutile crystal based on the infrared convergent-heating floating zone method

著者 (4件)： Watauchi Satoshi (Center for Crystal Science and Technology, University of Yamanashi, 7-32 Miyamae, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan) ,  Suzuki Masato (Center for Crystal Science and Technology, University of Yamanashi, 7-32 Miyamae, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan) ,  Nagao Masanori (Center for Crystal Science and Technology, University of Yamanashi, 7-32 Miyamae, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan) ,  Tanaka Isao (Center for Crystal Science and Technology, University of Yamanashi, 7-32 Miyamae, Kofu, Yamanashi 400-8511, Japan)
資料名： Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)
巻： 496-497  ページ： 69-73  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0942A  ISSN： 0022-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 赤外変換加熱浮遊帯(IR-FZ)法を用いたルチル結晶の成長に及ぼすミラーランプ(M-L)システムの位置効果を系統的に調べた。従来のIR-FZ法と比較して,M-Lシステムの溶融ゾーンは離れた位置で安定化され,大きなルチル結晶が成長できた。しかし,供給と溶融ゾーンの間の界面形状の粗さは,M-Lシステムのより離れた位置で増加した。供給の遅い回転速度は粗い供給側界面の平滑化に有効であることが分かった。本研究の結果は,M-Lシステムの位置と供給の回転が,IR-FZ法を用いることによって,大きな直径を有する単一ルチル結晶の安定成長のためのキー因子であることを示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ルチル ,  回転数 ,  界面 ,  形態 ,  *赤外線 ,  *結晶 ,  酸化チタン ,  *浮遊 ,  熱伝達 ,  メルト ,  平滑化
準シソーラス用語： 位置効果 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： A1 熱伝達 ,  A2 浮遊帯技術 ,  A2 メルトからの成長 ,  B1 酸化物 ,  B2 酸化チタン

分類 (2件)： 酸化物の結晶成長  (BK13050I) ,  半導体の結晶成長  (BK13040X)

タイトルに関連する用語 (9件)： 赤外 ,  収束 ,  浮遊 ,  ルチル ,  結晶 ,  成長 ,  ミラー ,  ランプ ,  位置効果