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J-GLOBAL ID:201802248370244708   整理番号:18A1614446

効率的で安定な反転平面ペロブスカイト太陽電池を作製するためのCH_3NH_3PbI_3膜表面形態に対する反溶媒の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of anti-solvents on CH3NH3PbI3 films surface morphology for fabricating efficient and stable inverted planar perovskite solar cells
著者 (10件):
資料名:
巻: 663  ページ: 105-115  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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ペロブスカイト太陽電池(PSC)の安定性はペロブスカイト結晶形態と膜品質に決定的に関連し,従ってペロブスカイト膜形成を制御することは重要な関心事の一つである。本研究において,著者らは,高品質CH_3NH_3PbI_3ペロブスカイト膜を製造するために,4つの反溶媒-トルエン,クロロベンゼン,p-キシレンおよびエーテルを用いた。対応するペロブスカイト膜の表面形態,光学的および構造的性質を調べた。結果として,これらの反溶媒の変化を伴うPSCを作製し,暗所および空気質量1.5Gの太陽光条件下で30日の期間にわたるそれぞれの光起電力性能を観測した。PSCのポスト作製に関する著者らの解析は,トルエン,クロロベンゼンおよびp-キシレン処理によって形成されたペロブスカイト膜が暗所で高効率で安定なPSCをもたらすことを強調した。興味深いことに,エーテル処理PSCは10日後に光起電力応答を示さなかった。トルエンとクロロベンゼン処理したPSCは安定なデバイス性能を示し,30日の光浸漬後でも初期電力変換効率の約90%を保持した。p-キシレン処理したPSCは同じ光浸漬期間中に不安定な性能を示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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太陽電池 
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