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J-GLOBAL ID:201802248532743504   整理番号:18A1008187

集積化された非蒸発性ゲッター薄膜コーティングによる銅電鋳真空チェンバの開発【JST・京大機械翻訳】

Development of copper electroformed vacuum chambers with integrated non-evaporable getter thin film coatings
著者 (9件):
資料名:
巻: 36  号:ページ: 021601-021601-7  発行年: 2018年 
JST資料番号: C0789B  ISSN: 0734-2101  CODEN: JVTAD6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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非常に小さい直径の真空容器上に被覆したTiZrV非蒸発性ゲッタ(NEG)薄膜の新しいアプローチに関する最初の結果を示した。この新しいプロセスは,NEG薄膜で前被覆された犠牲マンドレル周辺の真空容器の電鋳に基づいている。アルミニウムを,被覆のためのマンドレルとマグネトロンスパッタリング堆積の材料として選択した。NEG被覆の品質を改善するために,異なる被覆層シーケンスを適用し試験した。NEG活性化をX線光電子分光法(XPS)により特性化した。新しい方法で調製した平坦試料からのデータを通常のマグネトロンスパッタリング法で作製したものと比較した。その後,フランジを装備した真空チャンバを製作した。XPS特性化に加えて,ポンピング速度測定を行った。結果は,標準NEG被覆真空容器で測定したものと同等のCOポンピング速度を示した。しかし,H_2ポンピング速度は標準NEGに対して期待される値より10倍低い値を示した。(翻訳著者抄録)【JST・京大機械翻訳】
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真空技術 

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