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J-GLOBAL ID:201802249565597897   整理番号:18A1192139

強いレーザ照射下の極端紫外線(EUV)リソグラフィーにおける関連の多価すずイオン発生のための希薄なデブリを含まないスズ源としての(TMT)_nクラスタ【JST・京大機械翻訳】

(TMT)n clusters as dilute debris-free tin source for generation of multiply charged tin ions of relevance in extreme ultraviolet (EUV) lithography, under intense laser irradiation
著者 (3件):
資料名:
巻: 32  号: 14  ページ: 1135-1140  発行年: 2018年 
JST資料番号: T0695A  ISSN: 0951-4198  CODEN: RCMSEF  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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多重荷電した錫イオン([Sn]8+から[Sn]13+)は,極端紫外(EUV)波長13.5nmで理想発光体と考えられ,先進的なマイクロエレクトロニクスデバイスの作製に適している。固体錫ターゲットはこれらのイオンの発生のために広く探求されてきたが,デブリの発生はそれらの利用を制限している。スズを含む分子クラスタは,本研究で調べたように,錫イオンの生成のための希薄で,無debriのソースとして作用する可能性を有している。方法:クラスタとレーザエネルギーの効率的な結合を,多重荷電した錫イオンの発生に利用した。生成したイオンを飛行時間型質量分析を用いて特性化した。実験パラメータを変化させることにより,テトラメチルすず(TMT)クラスタに対して,多重荷電錫イオンの収率を操作した。さらに,レーザ-クラスタ相互作用により放出されたエネルギー電子と光子を,自家開発遅延場アナライザを用いて調べた。結果:強度約10~13W/cm2の1064nmピコ秒レーザパルスとTMTクラスタとの相互作用は,多重荷電スズイオン([Sn]14+)と炭素イオン([C]~4+まで)の生成をもたらした。効率的なレーザ-クラスタ相互作用は,イオン化エネルギー~282eV([Sn]14+)を有する多重荷電スズイオンの発生から明らかである。実験条件を変化させることによって,多重荷電した錫イオンの分布は,[Sn]8+から[Sn]13+への多重荷電した錫イオンの有意な相対的イオン収率を得るために影響を受けることができる。結論:テトラメチルすずクラスタは,バルクスズ標的とは対照的に,EUVリソグラフィー応用のための希薄で無debriのソースとして作用する可能性を有している。クラスタの固有の特性(例えば,より高い局所密度とクラスタ源のパルス特性)は,EUVリソグラフィー応用に適している。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
有機化合物の物理分析  ,  質量スペクトル(分子) 

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