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J-GLOBAL ID:201802250162288187   整理番号:18A2071023

固定研磨パッドによるサファイアウエハのラッピングに及ぼすアブレシブ粒子サイズの影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of Abrasive Particle Size on Lapping of Sapphire Wafer by Fixed Abrasive Pad
著者 (5件):
資料名:
巻: 764  ページ: 106-114  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0744C  ISSN: 1013-9826  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
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アブレシブ粒子サイズの選択は,固定砥粒(FA)パッドによるサファイアウエハのラッピングにおけるラッピング効率と表面品質を改善するために重要である。単一研磨剤の侵入深さのモデルを,固定研磨パッドを用いて開発した。開発したモデルの妥当性を検証するために,異なるサイズのダイヤモンド粒子を埋め込んだFAパッドを用いてラッピング試験を行った。結果は,研磨剤の浸透深さが粒子サイズだけでなく,パッドに対する加工片の硬度比にも関連することを示した。サファイアの材料除去率は研磨粒子サイズの二乗に比例するが,平均表面粗さは研磨粒子サイズに比例する。Copyright 2018 Trans Tech Publications Ltd. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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