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J-GLOBAL ID:201802250321967945   整理番号:18A1506450

Ge/Siヘテロ接合トンネル電界効果トランジスタの電気特性に及ぼすGe源中の不純物濃度の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of impurity concentration in Ge sources on electrical properties of Ge/Si hetero-junction tunneling field-effect transistors
著者 (6件):
資料名:
巻: 113  号:ページ: 062103-062103-4  発行年: 2018年 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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Ge/Siヘテロ接合トンネル電界効果トランジスタ(TFET)の電気性能に関して,Ge源に最適なBドーピング濃度が存在することを実験的に実証した。サブ閾値スイング(SS)における劣化は,1×10~20cm-3より高いソースB濃度をもつTFETsに対して観察され,それはGeにおける退化を引き起こすことができる。このソース濃度依存性はFermi準位(E_F)の縮退によるエネルギーフィルタリング効果の抑制によって説明できる。この解釈は,異なるソース濃度をもつGe/Si TFETにおけるSSの温度依存性によって支持される。また,60.6mV/decの低いSS値,82.3nA/μmのI_on値,および6.8×106の大きなI_on/I_off比が,Ge源中の最適化B濃度を有する1.1%の引張歪チャネルに対して得られた。TFETsの電気的特性に及ぼすソースE_Fの影響は,より小さいE_gを有する歪SiチャネルTFETsに対してより顕著であることが分かった。Copyright 2018 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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トランジスタ 

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