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J-GLOBAL ID：201802250765858741   整理番号：18A0118193

電子線照射による高分子膜中での銀ナノ粒子の合成および微細加工

著者 (2件)： 山本洋揮 (大阪大 産科研) ,  古澤孝弘 (大阪大 産科研)
資料名： 生産と技術  (季刊誌生産と技術)
巻： 69  号： 4  ページ： 57-60  発行年： 2017年10月10日 
JST資料番号： F0270A  ISSN： 0387-2211  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・銀イオンを含有したポリマー膜の電子線照射による高分子膜内銀ナノ粒子合成に関する研究の紹介。
・電子線照射によるポリスチレン(PS)膜中での銀ナノ粒子の合成。
・電子線照射によるポリスチレン膜中での銀ナノ粒子の形成機構。
・電子線照射によるAg/PS複合微細パターンの作製。

シソーラス用語： *電子照射 ,  *ナノ粒子 ,  高分子膜 ,  ポリスチレン ,  機構 ,  化学合成 ,  *パターン形成 ,  架橋【高分子】 ,  微細加工 ,  銀
準シソーラス用語： 銀ナノ粒子 ,  形成機構

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  金属の結晶成長  (BK13030M)

引用文献 (7件)：

• H. Ito et al., Polym. Eng. Sci. 23, 1012 (1983).
• A. Grenville et al., Proc. SPIE. 9425, 94250S-1 (2015).
• H. Yamamoto et al., Radiat. Phys. Chem 91, 148 (2013).
• H. Yamamoto et al., J. Phys. Chem. C 121, 5335 (2017).
• O. Platzer, et al., J. Phys. Chem. 96, 2334 (1992).

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子線照射 ,  高分子膜 ,  銀ナノ粒子 ,  微細加工