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J-GLOBAL ID:201802251271022443   整理番号:18A1028262

シリコン太陽光発電における有限対無限源エミッタ:遷移金属ゲッタリングへの影響【JST・京大機械翻訳】

Finite-vs. infinite-source emitters in silicon photovoltaics: Effect on transition metal gettering
著者 (14件):
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巻: 2017  号: PVSC  ページ: 1-3  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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有害金属不純物の制御は,シリコン太陽電池性能にとって重要である。従来のシリコン太陽電池エミッタは無限ソース領域で拡散し,エミッタに向かって強い点欠陥偏析を引き起こし,バルク少数キャリア拡散長を増大させることが知られている。イオン注入と化学蒸着(CVD)ガラスの出現により,有限ソース拡散エミッタが興味を引いている。本論文では,有限ソース拡散エミッタに存在する支配的ゲッタリング機構を解明することにより,それらの採用を増加させることを目的とした。著者らの発見は,無限源拡散が効果的な偏析ゲッタリングに重要であるが,高い表面リン濃度は有限ソース拡散による偏析ゲッタリングを活性化できることを示す。イオン注入エミッタの場合,従来の偏析ゲッタリングは注入層における不純物析出によりかなり増強される可能性がある。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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太陽電池 

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