文献

J-GLOBAL ID：201802251515231942   整理番号：18A2145698

中空シリカ担持Pt触媒を用いたシリカ系分離膜の作製とメチルシクロヘキサン脱水素反応の評価

著者 (7件)： 岩崎太幹 (神戸大 院 科技イノベ 先端膜工セ) ,  中川敬三 (神戸大 院 科技イノベ 先端膜工セ) ,  新谷卓司 (神戸大 院 科技イノベ 先端膜工セ) ,  神尾英治 (神戸大 院 工 先端膜工セ) ,  松山秀人 (神戸大 院 科技イノベ 先端膜工セ) ,  松山秀人 (神戸大 院 工 先端膜工セ) ,  吉岡朋久 (神戸大 院 科技イノベ 先端膜工セ)
資料名： 膜シンポジウム  (膜シンポジウム要旨集)
号： 30  ページ： 107  発行年： 2018年11月01日 
JST資料番号： L2226A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 担持触媒 ,  *白金触媒 ,  *膜 ,  二酸化ケイ素 ,  *脱水素反応 ,  触媒担体 ,  中空体 ,  触媒活性
準シソーラス用語： 分離膜 ,  *触媒膜

分類 (2件)： 反応操作(単位反応)  (XE01040I) ,  貴金属触媒  (CB06122I)

物質索引 (1件)： メチルシクロヘキサン

タイトルに関連する用語 (9件)： 中空 ,  シリカ ,  担持 ,  Pt触媒 ,  分離膜 ,  作製 ,  メチルシクロヘキサン ,  脱水素反応 ,  評価