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J-GLOBAL ID：201802251831000932   整理番号：18A0155448

プラズマ増強A LDにより成長させた裸およびキャップしたZrN膜のXPSの比較:環境酸化の影響【Powered by NICT】

Comparing XPS on bare and capped ZrN films grown by plasma enhanced ALD: Effect of ambient oxidation

著者 (2件)： Muneshwar Triratna (Department of Chemical and Materials Engineering, University of Alberta, Edmonton, Alberta T6G 1H9, Canada) ,  Cadien Ken (Department of Chemical and Materials Engineering, University of Alberta, Edmonton, Alberta T6G 1H9, Canada)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 435  ページ： 367-376  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,裸とキャップ窒化ジルコニウム(ZrN)膜のX線光電子分光法(XPS)測定を比較し酸化物ZrO_2および/または酸窒化ZrO_xN_yの形で検出され結合したOに及ぼす環境試料酸化の影響を調べた。両裸及びAl_2O_3/AlNキャップXPS試料中のZrN膜はテトラキスジメチルアミノジルコニウム(TDMAZr)前駆体,フォーミングガス(5%H_2,残りN_2)誘導結合プラズマ(ICP),と同一のプロセス条件で受けた研究グレードプロセスガスを用いたプラズマ増強原子層堆積(PEALD)法により成長させた。キャップされた試料は,A LD反応器の排気なし,厚さ1nmのA LD Al_2O_3の追加堆積による,ZrN上の1nm厚PEALD AlNを析出させることにより調製した。室温で裸のZrN試料について,大気暴露時間(t_exp)の増加と共に分光偏光解析法(SE)測定は,酸化物厚さ(d_ox)t_exp>120分で3.7±0.02nmに近づくにつれて自己制限表面酸化を示した。試料スパッタリング(t_sput=0)の前に測定したXPSデータでは,ZrO_2とZrO_xN_yは裸の試料で検出されたが,キャッピング層からのZrNとAl_2O_3/AlNはでキャップ付けした試料で検出されただけであった。裸ZrN試料では,深さプロファイルXPSデータにおける15nmのスパッタ深さ(d_sput)までZrO_2とZrO_xN_yの出現を測定しd_ox=3.7nmと矛盾したが,分析した試料中のスパッタリング誘起原子相互拡散から説明した。適度にスパッタした(d_sput=0.2nmと0.4nm)でキャップしたZrN試料からのXPSスペクトルにおけるアーチファクトの出現は,分析試料中のイオンbombardment誘起改質する証拠を提供する。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *プラズマ ,  誘導結合プラズマ ,  *酸化 ,  スパッタリング ,  深さプロフィル ,  窒化アルミニウム ,  X線光電子分光法 ,  酸化物 ,  相互拡散 ,  X線光電子スペクトル ,  前駆体
準シソーラス用語： キャップ層 ,  表面酸化 ,  分光偏光解析法 ,  フォーミングガス ,  窒化ジルコニウム , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (8件)： プラズマ ,  増強 ,  LD ,  成長 ,  キャップ ,  XPS ,  環境 ,  酸化