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J-GLOBAL ID：201802251872198064   整理番号：18A0175064

コンピュータシミュレーションによる粉体および線材へのイオン注入分布の一般則

Universal Expression of Projected Range Distributions for Spherical and Cylindrical Shape Target by Computer Simulation

著者 (6件)： 田原憧太郎 (福井工業高等専門学校 電気電子工学科) ,  山本幸男 (福井工業高等専門学校 電気電子工学科) ,  荒川正和 (福井工業高等専門学校 電気電子工学科) ,  西城理志 (福井工業高等専門学校 電気電子工学科) ,  堀川隼世 (福井工業高等専門学校 電気電子工学科) ,  米田知晃 (福井工業高等専門学校 電気電子工学科)
資料名： Journal of the Vacuum Society of Japan  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 60  号： 12  ページ： 463-466(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 1882-2398  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *イオン注入 ,  粒子 ,  *粉体 ,  円柱 ,  *計算機シミュレーション ,  阻止能 ,  *断面積 ,  *線材 ,  *空間分布 ,  二酸化ケイ素 ,  リン ,  ホウ素 ,  アルミニウム ,  石英
準シソーラス用語： 球状粒子 ,  円柱状粒子 ,  電子阻止能 ,  電子阻止断面積 ,  シリカ

分類 (1件)： 放射線による構造と物性の変化一般  (BK16121W)

引用文献 (21件)：

• 1) J. F. Ziegler: Ion Implantation, Science and Technology 2nd edition (Academic Press, Orlando, Florida, 2012).
• 2) M. M. M. Bilek: Appl. Surf. Sci., 310 (2014) 3.
• 3) J. R. Conrad, J. L. Radtke, R. A. Dodd, F. J. Worzala and N. C. Tran: J. Appl. Phys., 62 (1987) 4591.
• 4) M. Kawashita, F. Miyaji, T. Kokubo, G. H. Takaoka, I. Yamada, Y. Suzuki and K. Kajiyama: Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B, 121 (1997) 323.
• 5) K. Kajiyama, Y. Suzuki, M. Inoue, T. Kokubo, M. Kawashita and F. Miyaji: Proc. of 11th Int. Conf. Ion Imp. Tech., Austin, Texas, 1995, 816.

タイトルに関連する用語 (5件)： コンピュータシミュレーション ,  粉体 ,  線材 ,  イオン注入 ,  分布