抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
産業および自動車用途で使用されるパワーMOSFETに対して,特にパルス幅変調制御装置として使用されるとき,固定誘導スイッチング安全動作領域(UIS-SOA)は,運動制御にとって重要である。誘導負荷のターンオフ後の電流は,デバイス上に大きな電流と熱負荷を置いて,アバランシェ条件でデバイスのソース/ボディダイオードを通して流れる。この負荷に対するロバスト性は,パワーMOSFETの耐久性に対するキーであり,アバランシェ(t_AV)における支持時間,アバランシェ(I_AV)における電流,およびK値として知られている耐久性評価によって記述される。UISのためのプロセスウィンドウは,アバランシェ(t_AV)における長い時間における熱的破損によって囲まれて,高電流におけるラッチアップ故障によって,寄生性バイポーラ装置が活性化して,局所的故障を引き起こすことができる短いt_AV条件であった。ウエハレベル試験におけるデバイス能力の決定は,薄い金型がR_DSon特性化に必要であることを証明し,一方,厚い金型は熱破壊に対してよりロバストであり,金型厚さはより大きなインダクタ値においてI_AV値に影響を及ぼすことを示した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】