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J-GLOBAL ID:201802255802425383   整理番号:18A0078535

アーク-PVD TiAlSiYと(TiAlSiY)N被覆層の特性【Powered by NICT】

Characteristics of Arc-PVD TiAlSiY and (TiAlSiY)N coatings
著者 (6件):
資料名:
巻: 2017  号: NAP  ページ: 01FNC02-1-01FNC02-4  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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構造工学による多元素ナノスケール被覆の合成の可能性を考察した。得られた窒化物被覆(TiAlSiY)Nは四成分合金TiAlSiYと比較して構造相組成と機械的パラメータに及ぼす反応ガスの影響を推定することであった。堆積したコーティングの研究をX線回折(XRD),走査電子顕微鏡(SEM),および硬度測定法で行った。TiN相の三次元数値モデルは,得られた被覆の原子構造(TiAlSiY)の可視化のために作成した。微結晶のサイズはDebye-Scherrer法の枠内で計算した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (5件):
分類
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金属材料へのセラミック被覆  ,  酸化物の結晶成長  ,  無機化合物のルミネセンス  ,  電気化学反応  ,  半導体薄膜 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
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