文献
J-GLOBAL ID:201802255953636825   整理番号:18A1255121

水素プラズマに基づくエッジ終端を有する高性能垂直GaN-on-GaN p-n電力ダイオード【JST・京大機械翻訳】

High Performance Vertical GaN-on-GaN p-n Power Diodes With Hydrogen-Plasma-Based Edge Termination
著者 (8件):
資料名:
巻: 39  号:ページ: 1018-1021  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0344B  ISSN: 0741-3106  CODEN: EDLEDZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
本論文では,有機金属化学蒸着を用いてバルクGaN基板上に成長させた垂直GaN p-nパワーダイオードにおける水素プラズマに基づくエッジ終端技術(hPET)の初めての実装について報告した。9μm厚のドリフト層を有する素子は,1.57kVの高い絶縁破壊電圧(V_bd),0.45mΩ2(電流拡散を伴う)の低いON抵抗(R_ON)と,GaNの理論的限界に近い不動態化または磁場プレートなしで5.5GW/cm2(または3.6GW/cm2)の高いBaiga性能指数(V_2_bd/R_ON)を示した。この技術により,漏れ電流(-300Vで~10~6倍)の著しい減少とV_bd(~300Vから1.57kVまで)の大きな増強が可能になった。さらに,素子は,3.5Vのターンオン電圧,約2kA/cm2(または1.3kA/cm2)のON電流,約10~9のオン/オフ比,および1.4の理想因子を有する良好な順方向特性を示した。本研究は,hPETが,高電圧および高出力GaN p-nパワーダイオードのための効果的で,低コストで,容易に実装できるエッジ終端技術として役立つことを示した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
ダイオード 

前のページに戻る