文献
J-GLOBAL ID:201802256135089938   整理番号:18A1892909

異なるタイプのDLC膜の膜構造に及ぼす酸素プラズマ処理の影響

Effect of Oxygen Plasma Treatment on Film Structure for Different Types of DLC film
著者 (6件):
資料名:
巻: 43  号:ページ: 275-278(J-STAGE)  発行年: 2018年 
JST資料番号: L4468A  ISSN: 1382-3469  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
異なるソースと方法による5種類のダイヤモンド状炭素(DLC)膜{DCパルスCVD(ベンゼン),RFCVD(ブチルベンゼン),イオン化(ベンゼン),HiPIMS(炭素),RFCVD(ピロール)}をSi基板上に蒸着した。RF容量結合プラズマによる酸素プラズマ処理をこれらのDLC膜に均一に適用した。膜厚はプラズマ処理時間と共に直線的に減少した。全ての基板において,膜表面のC=O割合は0.5分間の酸素プラズマ処理により増加し,C=O割合はさらなる処理時間に対して一定であった。さらに,炭化水素ガスによって蒸着したDLC膜のXPS炭素1s(C1s)スペクトルの半値全幅(FWHM)は,深さ方向に対して一定であった。しかし,任意のDLC膜で,XPS C1sスペクトルのFWHMは,DLC膜の表面層と中間層で大きく変化した。したがって,炭化水素ガス(ベンゼン,ブチルベンゼン)を材料として用いたDLC膜では,FWHMは一定であることが示唆された。一方,材料として炭素を用いたHiPIMSにおいて,FWHMは膜の中間部で増加した。材料としてピロールを用いたRFCVDにおいて,表面層におけるFWHMは増加した。膜蒸着法と材料に依存して,膜表面層と中間層の間で構造が異なることが示唆された。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
その他の無機化合物の薄膜  ,  プラズマ応用 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る