文献

J-GLOBAL ID：201802256399653114   整理番号：18A0431827

反応性パルスレーザ蒸着中のN_2圧力で同調させたFeCoAlON膜の微細構造と電磁性能【Powered by NICT】

Microstructure and electromagnetic performance of the FeCoAlON films tuned by N₂ pressure during reactive pulsed laser deposition

著者 (4件)： Bai Guohua (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory of Novel Materials for Information Technology of Zhejiang Province, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China) ,  Jin Jiaying (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory of Novel Materials for Information Technology of Zhejiang Province, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China) ,  Wu Chen (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory of Novel Materials for Information Technology of Zhejiang Province, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China) ,  Yan Mi (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory of Novel Materials for Information Technology of Zhejiang Province, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 739  ページ： 866-872  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： FeCoAlON薄膜を,反応性パルスレーザ蒸着により作製した。微細組織および電磁気的性質をN_2圧力の関数であり,0から5mtorr変化させたとして調べた。全てのFeCoAlON薄膜は非磁性絶縁層によって分離された超微細FeCoナノ粒子を含んでいた。これら絶縁層は膜の高い電気抵抗率を確保し,N_2圧力の増加に伴ってAlNにAl_2O_3から変換したであろう。FeとCoの酸化がN_2を導入することにより効果的に抑制できた。Feは高いN_2圧力で非晶質鉄窒化物を形成し,異なる磁気応答を誘導する傾向がある。最適化電磁特性はN_2の3mtorrの下で達成され,高周波数での雑音抑制応用に大きな可能性を示すことができる。5mtorrへの更なる増加N_2圧力は非磁性窒化鉄の形成に起因して収縮したFeCoナノ粒子および肥厚した絶縁層をもたらし,FeCoAlON薄膜の超常磁性応答を生じた。,適切なN_2圧力は増強された電磁性能のために好ましい微細構造と相組成を誘導する際に絶対不可欠な役割を果たしている。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 相組成 ,  電気抵抗率 ,  ナノ粒子 ,  *微細構造 ,  超常磁性 ,  窒化アルミニウム ,  *パルスレーザ蒸着 ,  非晶質 ,  薄膜 ,  *鉄 ,  *反応性 ,  HF【周波数】
準シソーラス用語： 窒化鉄 ,  絶縁層 ,  非磁性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Microstructure ,  電磁的性質 ,  超常磁性転移 ,  パルスレーザ蒸着

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 反応性 ,  パルスレーザ蒸着 ,  同調 ,  微細構造