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J-GLOBAL ID：201802257165866488   整理番号：18A1598250

ナノ構造薄膜の抗真菌特性を予測する電気化学的測定【JST・京大機械翻訳】

Electrochemical measurements to predict the antifungal properties of nanostructured thin films

著者 (4件)： Gullino Alessio (Dipartimento di Elettronica e Telecomunicazioni, Politecnico di Torino, Torino, ITALY) ,  Parvis Marco (Dipartimento di Elettronica e Telecomunicazioni, Politecnico di Torino, Torino, ITALY) ,  Angelini Emma (Dipartimento di Scienza Applicata e Tecnologia, Politecnico di Torino, Torino, ITALY) ,  Grassini Sabrina (Dipartimento di Scienza Applicata e Tecnologia, Politecnico di Torino, Torino, ITALY)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018  号： MeMeA  ページ： 1-5  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 真菌および細菌感染は現代医学および病院における重要な問題である。特定の薬剤がこれらの感染を治療するために利用可能であるにもかかわらず,そのような細菌の増殖を避けるための予防的解決策は,多くの生物工学的応用において非常に興味深いであろう。銀及び銅金属は抗真菌及び静菌特性を有するが,実際の挑戦は制御された方法で金属種の連続放出を得ることである。本研究では,金属/ポリマーナノ複合材料被覆を反応性マグネトロンスパッタリングにより堆積した。Cuナノ粒子をSiOx薄膜に組み込み,金属イオン放出のための大きな有効表面を得た。ナノ複合材料被覆を電気化学インピーダンス分光法により特性化し,イオン放出測定を行い,菌類に対するそれらの生物活性挙動を評価した。放出イオン量の直接測定と電気化学インピーダンス測定の両方を用いて,特定の試験を行った。両試験により,100nmのオーダーの極端に薄い被覆を用いることにより,10日間,そのような放出を得る可能性を確認した。これは,任意のインプラントに容易に添加することができた。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 銀 ,  銅 ,  *ナノ構造 ,  イオン ,  イオン放出 ,  病院 ,  キャラクタリゼーション ,  *薄膜 ,  細菌感染 ,  ナノ複合材料 ,  *真菌類 ,  被覆 ,  細菌 ,  電気化学インピーダンス
準シソーラス用語： 直接測定 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノ構造 ,  薄膜 ,  真菌 ,  予測 ,  電気化学的測定