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J-GLOBAL ID：201802257178121301   整理番号：18A1913190

電子線グラフト重合法による温度応答性細胞培養膜の作製

著者 (7件)： 志村亮弥 (早大 理工総研) ,  末松良隆 (早大 先進研) ,  山本裕貴 (早大 理工総研) ,  三上翔平 (早大 理工総研) ,  武岡真司 (早大 先進研) ,  大島明博 (大阪大 大学院) ,  鷲尾方一 (早大 理工総研)
資料名： 放射線化学討論会講演要旨集  (Program and Abstract. Annual Meetings of the Japanese Society of Radiation Chemistry)
巻： 61st  ページ： 169-170  発行年： 2018年09月25日 
JST資料番号： L0690A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *細胞培養 ,...
準シソーラス用語： *放射線グラフト重合

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分類 (2件)： 放射線高分子化学  (CG03050S) ,  細胞・組織培養法  (EA03040R)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子線 ,  グラフト重合 ,  温度応答 ,  細胞培養 ,  作製