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J-GLOBAL ID：201802258791461381   整理番号：18A0826799

超格子ゼオライト薄膜のイオン吸着特性

著者 (7件)： 森義晴 (山形大 大学院理工学研究科) ,  野口雄祐 (山形大 大学院理工学研究科) ,  鹿又健作 (山形大 大学院理工学研究科) ,  三浦正範 (山形大 大学院理工学研究科) ,  有馬ボシールアハンマド (山形大 大学院理工学研究科) ,  久保田繁 (山形大 大学院理工学研究科) ,  廣瀬文彦 (山形大 大学院理工学研究科)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 118  号： 9(ED2018 1-13)  ページ： 33-36  発行年： 2018年04月12日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 近年ゼオライトは薄膜化による新分野への応用研究が進められている。一般にゼオライト薄膜の成膜には水熱合成法が用いられているが,我々はTris[dimethylamino]silane(TDMAS),Trimethylaluminium(TMA)の二つの原料とプラズマ励起加湿Arを用いて室温原子層堆積法による成膜を確立した。更に,シリカとゼオライト層を交互に積層し,超格子構造を用いた超格子ゼオライト薄膜の成膜に成功した。超格子構造を用いることで,イオン吸着能力の向上を確認した。室温原子層堆積法による超格子ゼオライト薄膜の1サイクルあたりの成長膜厚は0.27nm/cycleと測定された。本方法により,室温形成やナノメートルオーダーでの膜厚制御が可能となり,従来法では不可能であった有機・フレキシブル材料等への成膜を可能とした。(著者抄録)

シソーラス用語： 化学蒸着 ,  *ゼオライト ,  アルミナ ,  二酸化ケイ素 ,  *超格子
準シソーラス用語： 原子層堆積 ,  シリカ

分類 (1件)： 吸着,イオン交換  (XD02060I)

引用文献 (7件)：

• 冨永博夫,ゼオライトの科学と応用,講談社,東京,pp.1-13,1991年
• Christopher M. Lew, Rui Cai, And Yushan Yan, “Zeolite Thin Films: From Computer Chips to Space Stations”, ACCOUNTS OF CHEMICAL RESEARCH, Vol. 43, No. 2, pp.210-219, February 2010
• M.Vilaseca, J.Coronas, A.Cirera, A.Cornet, J.R.Morante, J.Santamaria, “Use of zeolite films to improve the selectivity of reactive gas sensors”, Catalysis Today, 82, pp.179-185, 2003
• Hsin-Yan Lu, Chin-Lin Teng, Chun-Wei Yu, Yu-Chiao Liu, and Ben-Zu Wan, “Addition of Surfactant Tween 80 in Coating Solutions for Making Mesoporous Pure Silica Zeolite MFI Low-k Films”, Ind. Eng. Chem. Res, 49, pp.6279-6286, 2010
• 吉田貞史,“半導体ヘテロ構造と超格子”,表面技術,Vol.40,No.10,pp.1064-1069,1989

タイトルに関連する用語 (5件)： 超格子 ,  ゼオライト ,  薄膜 ,  イオン ,  吸着特性