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J-GLOBAL ID:201802260088392999   整理番号:18A1028375

SiOx不動態化ペーストを用いたSiNx反射防止膜の不動態化と反射率均一性の改善【JST・京大機械翻訳】

Improving the passivation and the reflectance uniformity of SiNx anti-reflection coating by using the SiOx passivation paste
著者 (8件):
資料名:
巻: 2017  号: PVSC  ページ: 1-3  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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著者らの以前の研究において,著者らは,低コストのAlOx不動態化ペーストを開発し,著者らの不動態化エミッタおよび後部セル(PERC)製品に印刷AlOx層を適用し,ExcelTonTM-Cell-IIIと命名した。本論文では,AlOx不動態化ペーストの同じ有機系に基づいて,SiOx不動態化ペーストをさらに開発し,プラズマ増強化学蒸着(PECVD)により堆積した通常のSiNx単層(SL)反射防止被覆(ARC)上に印刷した。フロントサイド不動態化と反射率均一性に関するARCの品質は,余分に印刷されたSiOx層を適用することによって改善された。この二重層(DL)ARCを用いることにより,印刷したSiOx/PECVD堆積SiNxスタック層では,PERCセルの効率は20.73%に達し,それは参照セル(すなわちPECVD堆積SiNx SL ARCを有するPERCセル)のそれよりも0.1%高かった。この0.1%の効率利得は,主に1.1mVのVocの増加と16mAのIscの増加に由来し,参照セルのそれよりもDL ARCセルのより高い青色応答に起因した。このDL ARCにおける各層の厚さと屈折率を最適化することにより,セル効率をさらに向上できると信じる。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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太陽電池 
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