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J-GLOBAL ID：201802265900239512   整理番号：18A1044592

k-平均アルゴリズムを用いたレビュー-SEM画像解析:AM:先進的な計測学/DI:欠陥検査【JST・京大機械翻訳】

Review-SEM image analysis with K-means algorithm: AM: Advanced metrology/DI: Defect inspection

著者 (4件)： Halder Sandip (Lithography Process and Patterning Control, IMEC, Kapeldreef 75, Heverlee, Belgium 3001) ,  Cerbu Dorin (Lithography Process and Patterning Control, IMEC, Kapeldreef 75, Heverlee, Belgium 3001) ,  Saib Mohamed (Lithography Process and Patterning Control, IMEC, Kapeldreef 75, Heverlee, Belgium 3001) ,  Leray Philippe (Lithography Process and Patterning Control, IMEC, Kapeldreef 75, Heverlee, Belgium 3001)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018  号： ASMC  ページ： 255-258  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 技術ノードの連続的な縮小により,リソグラフィーはますます挑戦的になっている。20nmノードにおいて,二重パターン形成技術(DPT)は微細素子構造を達成する通常の方法であった。サブ-14nmノードに対して,IDMのパターン化選択はSAQPプラスEUVブロックまたはEUVベース直接パターン形成アプローチの間にある。新しい技術の採用により,最初の収率ランプは努力を要する。光学的検査ツールによって同定された欠陥位置は,光学ツールによってフラッグされた領域における特徴が破壊されていることを正確に理解するために,レビュー-SEMによってレビューされる必要がある。レビュー-SEMツールにより画像化された画像は分類のために使用されるが,定量化にはほとんど使用されない。本論文の目的は,数千の既存のレビュー-SEM画像が,定量化と更なる分析のために使用できるかどうかを見ることである。より具体的には,接続成分とK平均クラスタ分析アルゴリズムによるSEM定量化問題に取り組んだ。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： リソグラフィー ,  クラスタ分析 ,  *アルゴリズム ,  *画像分析 ,  画像処理 ,  *画像 ,  *欠陥検査 ,  パターン形成
準シソーラス用語： 画像化 ,  マイクロデバイス ,  ダブルパターニング , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (9件)： 平均 ,  アルゴリズム ,  レビュー ,  SEM画像 ,  解析 ,  Am ,  計測 ,  DI ,  欠陥検査