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J-GLOBAL ID:201802265954745230   整理番号:18A0718147

PSD構造を用いた裏面照射型CMOSイメージセンサの赤外線感度向上

Near-infrared Sensitivity Enhancement of a Back-illuminated Complementary Metal_Oxide Semiconductor Image Sensor with a Pyramid Surface for Diffraction Structure
著者 (9件):
資料名:
巻: 42  号: 10(IST2018 11-25)  ページ: 51-54  発行年: 2018年03月02日 
JST資料番号: S0209A  ISSN: 1342-6893  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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本稿では,近赤外感度向上を目的としてPSD(Pyramid Surface for Diffraction)を用いた裏面照射型CMOS(Complementary Metal_Oxide Semiconductor)イメージセンサについて報告する。近年,近赤外領域の波長を用いたイメージセンサの用途が拡大しており,近赤外感度を向上させることが重要な要素となっている。本CISは,フォトダイオード面に回折格子の役割を担うPSD構造を形成することで,光の回折を促して光の光路長を伸ばす特徴を持つ。これにより,波長850nmにおける量子効率は30%以上となった。単にPSD構造を形成するとノイズ特性が悪化するが,特別なプロセスを用いることで,ノイズ特性が劣化することなくPSD構造を形成することに成功した。回折した光は隣接画素へ漏れ込みやすいため,DTI(Deep Trench Isolation)を用いることで隣接画素への漏れ込みを抑制し,解像度の劣化を抑制することに成功した。(著者抄録)
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分類 (2件):
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図形・画像処理一般  ,  光導電素子 
タイトルに関連する用語 (4件):
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