文献
J-GLOBAL ID:201802267828252991   整理番号:18A1246667

両親媒性反応溶媒を用いたサブミクロンヘキサン分散シリカ粒子のワンポット自発形成【JST・京大機械翻訳】

One-pot spontaneous formation of submicron hexane-dispersible silica particles with the aid of amphiphilic reaction solvent
著者 (3件):
資料名:
巻: 553  ページ: 253-258  発行年: 2018年 
JST資料番号: A0539B  ISSN: 0927-7757  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
疎水性サブミクロンハイブリッドシリカ粒子を,触媒Lewis塩基性両親媒性反応溶媒として作用するジエチルアミン中に溶解したテトラエチルオルソシリケート(TEOS)とヘキシルトリメトキシシラン(HTMS)の混合物中で自発的に形成した。得られたハイブリッドシリカ粒子は,一次粒子分散の形でヘキサンのような非極性溶媒中で安定に分散した。溶媒ジエチルアミンはシラノール重縮合の触媒としてだけでなく,生成過程を通して疎水性ハイブリッドシリカ粒子の一次粒子分散のための優れた分散剤としても機能した。TEOS,HTMSおよびジエチルアミン中の水の添加後,粒子核形成は30秒間の超音波処理を促進した。次に,均一サイズのサブミクロン疎水性ハイブリッドシリカ粒子を,核の分散が24時間,まだ保たれた後に自発的に形成した。ハイブリッドシリカ粒子の表面は次第に疎水性になった。これは,表面近傍における非極性ペンダント基(ヘキシル基)の密度が高いためである。これは,四官能性TEOSのそれよりも三官能性HTMSの反応性が低いことに起因する。ジエチルアミンを用いる利点を以下のようにまとめた。1)ジジエチルアミンはシラノール縮合を強く触媒し,粒子表面は完全に疎水化された。2)疎水化粒子はジエチルアミンと良好な親和性を有し,ハイブリッドシリカ粒子はその中に安定に分散していた。さらに,ハイブリッドシリカ粒子が空気乾燥された後でも,それらは一次粒子分散の形でヘキサン中に再分散された。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
コロイド化学一般 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る