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J-GLOBAL ID:201802269577725972   整理番号:18A1008182

スパッタしたMo-Ti-Al膜の酸化と湿式エッチング挙動【JST・京大機械翻訳】

Oxidation and wet etching behavior of sputtered Mo-Ti-Al films
著者 (5件):
資料名:
巻: 36  号:ページ: 021513-021513-5  発行年: 2018年 
JST資料番号: C0789B  ISSN: 0734-2101  CODEN: JVTAD6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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大気雰囲気中で300°C以上のMo薄膜の曝露は表面酸化をもたらし,薄膜トランジスタ液晶ディスプレイにおけるそれらの性能を劣化させる着色酸化膜の形成をもたらす。本研究では,Mo薄膜の微細構造,電気的性質,酸化および湿式エッチング挙動に及ぼす合金元素TiおよびAlの影響を調べた。Mo_1-x-yTi_xAl_y膜(x≒0.08と0≦y≦0.24)を直流マグネトロンスパッタリングにより堆積し,大気中で330°C,1時間アニールした。Mo-Ti-Al膜の耐酸化性はAl含有量の増加と共に向上した。y=0.16の最小Al含有量は,薄い保護Al_2O_3表面層を形成し,着色酸化モリブデンの形成を防ぐために必要であった。一般的に使用されているリン酸,酢酸,硝酸の混合物中のMo-Ti-Al膜の湿式エッチング速度はAl含有量の増加と共に減少したが,薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ応用にはまだ許容できた。(翻訳著者抄録)【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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その他の無機化合物の薄膜 

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