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J-GLOBAL ID：201802269690955198   整理番号：18A1650112

パルスレーザ融解により誘起されたゲルマニウム中の酸素の不拡散【JST・京大機械翻訳】

Indiffusion of oxygen in germanium induced by pulsed laser melting

著者 (6件)： Milazzo R. (Dipartimento di Fisica e Astronomia, Universita di Padova and CNR-IMM, Via Marzolo 8, 35131 Padova, Italy) ,  Linser M. (Dipartimento di Fisica e Astronomia, Universita di Padova and CNR-IMM, Via Marzolo 8, 35131 Padova, Italy) ,  Scarpa D. (INFN Laboratori Nazionali di Legnaro, Italy) ,  Carnera A. (Dipartimento di Fisica e Astronomia, Universita di Padova and CNR-IMM, Via Marzolo 8, 35131 Padova, Italy) ,  Andrighetto A. (INFN Laboratori Nazionali di Legnaro, Italy) ,  Napolitani E. (Dipartimento di Fisica e Astronomia, Universita di Padova and CNR-IMM, Via Marzolo 8, 35131 Padova, Italy)
資料名： Materials Science in Semiconductor Processing  (Materials Science in Semiconductor Processing)
巻： 88  ページ： 93-96  発行年： 2018年 
JST資料番号： W1055A  ISSN： 1369-8001  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ融解(PLM)により誘起されたゲルマニウム中の酸素の不拡散の系統的研究を報告した。実験パラメータの影響を実証するために,異なる処理条件を比較した。すなわち,H_2OまたはHFディップ,空気またはN_2リッチ雰囲気,単一またはマルチパルスPLMによるGe自然酸化物のプレPLMエッチングの有無についてである。すべての処理条件において,1×10~19cm-3以上の表面濃度で酸素の不拡散が常に観察された。Pre-PLM表面化学処理は,HFがより低い表面ラフニングを可能にするにもかかわらず,酸素浸透に関して有意な影響を持たないように思われる。反対に,酸素濃度の減少による処理雰囲気は,全体のO非拡散を減少させるのにより効率的である。本実験結果は,高ドープGeに対するPLM技術の実施,ならびに汚染問題が重要である可能性のある設計研究の観点から重要である。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 浸漬 ,  ドーピング ,  浸透 ,  エッチング ,  *酸素 ,  *レーザ融解 ,  *ゲルマニウム ,  *パルス
準シソーラス用語： 酸素濃度 ,  化学処理 ,  表面濃度 ,  自然酸化物 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： ゲルマニウム ,  酸素 ,  汚染レーザアニーリング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルス ,  レーザ融解 ,  誘起 ,  ゲルマニウム ,  酸素 ,  拡散