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J-GLOBAL ID：201802269883954770   整理番号：18A1520331

サファイアの化学機械研磨に及ぼす混合超微細コロイド状シリカ粒子の影響

Effects of mixed ultrafine colloidal silica particles on chemical mechanical polishing of sapphire

著者 (6件)： BUN-ATHUEK Natthaphon (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  TAKAZAKI Hiroko (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  YOSHIMOTO Yutaka (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  KHAJORNRUNGRUANG Panart (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  YASUNAGA Takuo (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  SUZUKI Keisuke (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57  号： 7S2  ページ： 07MD03.1-07MD03.5  発行年： 2018年07月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *サファイア ,  *化学機械研磨 ,  *超微粒子 ,  *二酸化ケイ素 ,  動的光散乱 ,  透過型電子顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  *基板 ,  摩擦係数 ,  研磨剤
準シソーラス用語： *コロイドシリカ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (38件)：

• J. Wang, B. Guo, Q. Zhao, C. Zhang, Q. Zhang, H. Chen, and J. Sun, J. Eur. Ceram. Soc. 37, 2465 (2017).
• W. Wang, J. Huo, W. Liu, and Z. Song, Proc. ICPT, 2016, p. 149.
• X. Niu, Y. Liu, B. Tan, L. Han, and J. Zhang, Trans. Nonferrous Met. Soc. China 16, s732 (2006).
• Y. He, Y. Li, J. Zhou, and P. Wu, Proc. ICPT, 2016, p. 144.
• T. Matsunaga, M. Uneda, Y. Takahashi, K. Shibuya, Y. Nakamura, D. Ichikawa, and K. Ishikawa, Proc. ICPT, 2015, p. 267.

タイトルに関連する用語 (4件)： サファイア ,  化学機械研磨 ,  超微細 ,  コロイド状シリカ