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J-GLOBAL ID：201802270166802207   整理番号：18A0425919

陽極酸化アルミニウムのナノ細孔アレイの孔径を制御する方法【Powered by NICT】

A method of controlling the hole size of nanopores array on anodic aluminum oxide

著者 (14件)： Xue Tao (Institute of Microelectronics, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Xue Tao (Tsinghua National Laboratory for Information Science and Technology (TNList), Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Xu Qing (Institute of Microelectronics, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Xu Qing (Tsinghua National Laboratory for Information Science and Technology (TNList), Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Li Yu-Xing (Institute of Microelectronics, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Li Yu-Xing (Tsinghua National Laboratory for Information Science and Technology (TNList), Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Qi Han-Yu (Institute of Microelectronics, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Qi Han-Yu (Tsinghua National Laboratory for Information Science and Technology (TNList), Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Wang Zhi-Bo (Institute of Microelectronics, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Wang Zhi-Bo (Tsinghua National Laboratory for Information Science and Technology (TNList), Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Yang Yi (Institute of Microelectronics, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Yang Yi (Tsinghua National Laboratory for Information Science and Technology (TNList), Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Ren Tian-Ling (Institute of Microelectronics, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Ren Tian-Ling (Tsinghua National Laboratory for Information Science and Technology (TNList), Tsinghua University, Beijing 100084, China)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 215  ページ： 183-186  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固体ナノ細孔は水汚染の分子生物学と治療への応用に有望である。表現された多くの技術はナノ細孔アレイを作製できない。本研究では,陽極酸化アルミニウム(AAO)の細孔サイズを制御する新しい,コスト効率の良い便利な技術を実証した。をプラズマ増強化学蒸着(PECVD)の不十分なステップ被覆に基づいた。約8nmのナノ細孔は150秒間SiO_2を堆積後に得られた。ホールの大きさの分布はGauss関数に適合し,平均サイズを抽出した。正孔サイズと蒸着時間の間の関係を当てはめた。一般に,孔サイズは堆積時間の増加とともに直線的に減少した。ESI計算流体力学(CFD)を用いて,この堆積プロセスをシミュレートした。シミュレーションは実験結果と良く一致した。結果は,この技術が10nm以下の大きな均一ナノ細孔アレイを得るために有望であることを示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： モデリング ,  シミュレーション ,  分子生物学 ,  正孔 ,  プラズマCVD ,  水質汚濁 ,  被覆 ,  計算流体力学 ,  *細孔径 ,  多孔質体 ,  蒸着
準シソーラス用語： Gauss関数 ,  コスト効率 ,  *ナノ細孔 ,  *AAO【酸化物】 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ナノ細孔アレイ ,  PECVD ,  AAO ,  多孔質材料 ,  シミュレーションとモデル化

分類 (2件)： 電解理論  (XE02020T) ,  化成処理  (WC08050J)

タイトルに関連する用語 (4件)： 陽極酸化アルミニウム ,  ナノ細孔 ,  アレイ ,  孔径