光波散乱計測における測定に及ぼす種々の確率的ラインエッジ粗さパターンの影響 シミュレーション研究【Powered by NICT】

Gross H.; Heidenreich S.; Baer M.

文献

J-GLOBAL ID：201802270697400217 整理番号：18A0386961

光波散乱計測における測定に及ぼす種々の確率的ラインエッジ粗さパターンの影響シミュレーション研究【Powered by NICT】

Impact of different stochastic line edge roughness patterns on measurements in scatterometry - A simulation study

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資料名：
巻： 98 ページ： 339-346 発行年： 2017年
JST資料番号： W0315B ISSN： 0263-2241 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

フォトマスクの測定した光回折パターンのラインエッジ粗さ(LER)の影響を調べた。散乱光強度からの周期的表面構造の幾何学的パラメータを決定するためにウエハ計測学における正確な,間接法としてこれは散乱測定に関係している。粗さに対する感度は入射光の波長が小さい増加した。13.5nmにおけるEUV光波散乱計測のために,多くの高回折次数の効率を測定することができる。ナノメートル範囲ではそれらはLERのような理想的な周期的直線構造からのずれに敏感であった。Fraunhofer近似を適用して,著者らは,その2D Fourier変換により多くの粗いスリットから成る照射2D開口面の遠方場回折パターンを計算した。開口ギャップの粗いエッジはランダム複素指数位相項を用いたパワースペクトル密度(PSD)関数を用いて作成した。粗さプロファイルにおける相関を無視した簡単な理論を回折次数と指数関数的減少と著者等の数値解によって試験しうる粗さ振幅の標準偏差を強度を予測する。粗い開口について計算された光強度は,その辺が直線である理想的な周期的開口について見られるものと比較した。粗さ振幅σ,線形相関長ξ,及び粗さ指数αの課せられた標準偏差のための異なる値を持つ粗い開口の集合を検討した。指数関数的減少の有効性は相関長ξ5nmから1000nmまでおよび0.3から1.0までの粗さ指数αを調べた。指数補正係数の結果は,大きな相関長さと小さな粗さ指数のための言及した理論値から実質的にずれることが分かった。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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固体デバイス計測・試験・信頼性 , 計測学一般 , 長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器 , 温度測定,温度計 , AD・DA変換回路

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