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J-GLOBAL ID：201802271140505022   整理番号：18A0382252

磁極増強ICP源におけるAr N_2混合プラズマの分光学的とLangmuir探針測定【Powered by NICT】

Spectroscopic and Langmuir probe measurements of Ar-N₂ mixture plasma in magnetic pole enhanced ICP source

著者 (2件)： Younus Maria (Department of Physics, Quaid-i-Azam University 45320 Islamabad, Pakistan) ,  Rehman N.U. (Plasma Physics Laboratory, Department of Physics, COMSATS Institute of Information Technology 44000, Islamabad, Pakistan)
資料名： Optik  (Optik)
巻： 130  ページ： 877-886  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0251A  ISSN： 0030-4026  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 過去10年間に,電磁パワー吸収機構に基づくプラズマ源は,大規模半導体製造のための出現した。この目的のために誘導結合プラズマ(ICP),ヘリコン,電子サイクロトロン共鳴(ECR)などが広く研究されている。最近,ICPの新しい設計は,大きな処理面積にわたるプラズマの均一な広がりを複数のアンテナを用いて強磁性コアとICPにより増強されたICPを含むプラズマプロセシング反応器の改善のための提案されている。本論文では,磁極増強(MaPE ICP)を用いた低圧Ar N_2誘導結合プラズマ源のプラズマ処理パラメータを変化させて検討した。発光分光法(OES)とRF補償したLangmuirプローブは,電子密度,電子温度と電子エネルギー確率関数(EEPF)を含むパラメータの傾向を調べるために採用した。,Ar準安定画分もArスペクトル線の発光強度を用いた線比法から計算した。選抜系統の発光強度と準安定画分の変化はEEPFのいろいろな部分での電子密度に関連づけることができる。さらに,低RF電力で混合物中の増加Ar濃度を用いて「双Maxwell型」から「Maxwell分布からEEPFの変化も観察された。微量希ガス光量測定(TRG光量測定)に基づいて,「先端的光量測定」法により決定したN_2の解離画分についても報告した。解離分率はRF出力と充填ガス圧力と同様に放電中のAr濃度と共に増加することが分かった。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 電子密度 ,  発光分光法 ,  誘導結合プラズマ ,  *アルゴン ,  プラズマ処理 ,  ヘリコン ,  反応器 ,  光量測定 ,  電子温度 ,  放電 ,  *Langmuir探針 ,  プラズマ源 ,  *プラズマ
準シソーラス用語： Maxwell分布 ,  発光強度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： ICP ,  MaPE ICP ,  OES

分類 (1件)： プラズマ中の電磁波  (BJ02032F)

タイトルに関連する用語 (7件)： 磁極 ,  増強 ,  ICP ,  Ar ,  プラズマ ,  分光学 ,  Langmuir探針