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J-GLOBAL ID：201802271162000393   整理番号：18A1131521

VUV/O_3活性化と多段階低温焼なましプロセスを用いたシリコンと石英ガラスの直接接合【JST・京大機械翻訳】

Direct bonding of silicon and quartz glass using VUV/O₃ activation and a multistep low-temperature annealing process

著者 (5件)： Xu Jikai (State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) ,  Wang Chenxi (State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) ,  Wang Te (State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) ,  Liu Yannan (State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) ,  Tian Yanhong (State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 453  ページ： 416-422  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低温直接接合は,大きな熱応力のない一つの複合材料に二つ以上の異種材料を一体化する有望な方法である。本論文では,真空紫外/オゾン(VUV/O_3)活性化と多段階,低温アニーリング過程によるシリコンと石英ガラスの結合過程を記述した。200°Cでのアニーリング後に,微小亀裂のない強い結合強度と接合界面が得られた。表面と結合界面を特性化した。有機汚染物質がVUV/O_3によって除去された後に,処理された表面は非常に親水性であった。加えて,VUV/O_3誘起表面酸化は増加し,基板上の酸化物アスペリティをもたらした。これらの新しく生成した表面アスペリティは,水応力腐食効果に基づく強い変形能を有し,低温アニーリング後にギャップ閉鎖をもたらす。さらに,VUV/O_3活性化結合の機構のモデルを提案した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 親水性 ,  微小亀裂 ,  アスペリティ ,  付着強さ ,  複合材料 ,  *低温 ,  オゾン ,  *石英ガラス ,  *焼なまし ,  キャラクタリゼーション ,  酸化物 ,  *ケイ素
準シソーラス用語： 有機汚染物質 ,  異種材料 ,  *直接接合 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 低温ボンディング ,  表面活性化 ,  真空紫外 ,  接合界面

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (8件)： VUV ,  活性化 ,  多段 ,  低温焼なまし ,  プロセス ,  シリコン ,  石英ガラス ,  直接接合