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J-GLOBAL ID：201802272109438903   整理番号：18A1591481

窒化クロムのバイポーラマグネトロンスパッタリングに及ぼすデューティサイクルと周波数効果の広範囲調査【JST・京大機械翻訳】

Wide range investigation of duty cycle and frequency effects on bipolar magnetron sputtering of chromium nitride

著者 (6件)： Haye Emile (Laboratoire Interdisciplinaire de Spectroscopie Electronique (LISE), Namur Institute of Structured Matter (NISM), University of Namur, 61 Rue de Bruxelles, 5000 Namur, Belgium) ,  Colaux Julien L. (Laboratoire d’Analyse par Reactions Nucleaires (LARN), Namur Institute of Structured Matter (NISM), University of Namur, 61 Rue de Bruxelles, 5000 Namur, Belgium) ,  Colaux Julien L. (Synthesis, Irradiation & Analysis of Materials (SIAM) Platform, University of Namur, 61 Rue de Bruxelles, 5000 Namur, Belgium) ,  Moskovkin Pavel (Laboratoire d’Analyse par Reactions Nucleaires (LARN), Namur Institute of Structured Matter (NISM), University of Namur, 61 Rue de Bruxelles, 5000 Namur, Belgium) ,  Pireaux Jean-Jacques (Laboratoire Interdisciplinaire de Spectroscopie Electronique (LISE), Namur Institute of Structured Matter (NISM), University of Namur, 61 Rue de Bruxelles, 5000 Namur, Belgium) ,  Lucas Stephane (Laboratoire d’Analyse par Reactions Nucleaires (LARN), Namur Institute of Structured Matter (NISM), University of Namur, 61 Rue de Bruxelles, 5000 Namur, Belgium)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 350  ページ： 84-94  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応性スパッタリングの異なる技術の中で,バイポーラおよび高出力インパルスマグネトロンスパッタリングは薄膜研究コミュニティにとって関心が高まっている。しかし,反応性雰囲気の存在下での両プロセスの組合せは非常に複雑であり,スパッタリングパラメータの役割は堆積材料特性を制御するための重要なポイントである。本研究では,窒素存在下でのクロムの反応性バイポーラスパッタリング効率に及ぼすデューティサイクルとパルス周波数の影響を調べた。本研究は,デューティサイクルに対して12.5~87.5%,周波数に対して62.5~5000Hzの広範囲のパラメータについて行った。堆積した薄膜(構造,微細構造,密度,組成,光学的及び機械的性質)のex situ特性化に加えて,マグネトロン放電特性のその場測定(励起温度,ピークターゲット電流及び電圧,基板位置でのエネルギー流入)を行った。デューティサイクルの変調はターゲットにおけるより高いイオン化レベルによる機械的性質のより良い制御を可能にし,一方,周波数は堆積膜のテクスチャ化と密度の変化に起因する光学的性質を調整するためにより良く適合するように見える(シミュレーションにより確認される)。全ての膜は堆積過程で基板に印加されたバイアスが無いために類似の微細構造を示し,堆積した化学種の原子当たりの類似のエネルギーをもたらす。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *スパッタリング ,  パラメータ ,  *周波数 ,  窒素 ,  薄膜 ,  電圧 ,  イオン化 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  電流 ,  エネルギー ,  *クロム ,  微細構造 ,  バイアス ,  薄膜成長 ,  基板
準シソーラス用語： *デューティサイクル , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： バイポーラスパッタリング ,  HIPIMS ,  マグネトロンスパッタリング ,  デューティサイクル ,  窒化クロム

分類 (2件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 窒化クロム ,  バイポーラ ,  マグネトロンスパッタリング ,  デューティサイクル ,  調査