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J-GLOBAL ID：201802277318758060   整理番号：18A1278999

精密位置決め技術の最新動向と有効活用のポイント PART1 精密位置決めの最新技術とその適用 解説6 外乱としての振動・熱への対策-半導体露光装置のステージ

著者 (1件)： 涌井伸二 (東京農工大 大学院工学研究院)
資料名： 機械設計  (Machine Design)
巻： 62  号： 9  ページ： 49-56  発行年： 2018年08月01日 
JST資料番号： G0863A  ISSN： 0387-1045  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・半導体露光装置で使用されているステージの振動および発熱対策について解説。
・振動対策(アクティブダンパを用いた防振対策,床の振動の低減),高加減速駆動に起因する振動の制振対策(高速化に起因する振動発生の原因,ステージ制御系に対する対策,マスダンパの使用,ステージ制動用のアシスト機構の採用,ステージの反力処理機構の採用,振動を生じない自己完結形ステージ),などについて記述。
・熱対策(発熱体の液冷。局所空調の採用,レーザ干渉計の熱ゆらぎ対策の強化),軽微な発熱体の影響,レーザ干渉計の代わりのエンコーダの採用,ユースポイントの温度制御の可能性,空気ばねの音頭変動の抑制,などについて解説。

シソーラス用語： *対策 ,  除去 ,  *位置決め装置 ,  *発熱 ,  精度 ,  高速化 ,  制御系 ,  発熱体 ,  温度制御 ,  温度変動 ,  *露光装置 ,  *振動対策 ,  外乱除去 ,  *X-Yステージ ,  防振ダンパ ,  位置制御系
準シソーラス用語： ダンパ ,  *半導体製造装置 ,  位置決め精度

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  機械設計  (QA01080H)

タイトルに関連する用語 (8件)： 精密位置決め ,  最新動向 ,  有効活用 ,  ポイント ,  外乱 ,  対策 ,  露光装置 ,  ステージ