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J-GLOBAL ID:201802277611953258   整理番号:18A0838787

CMOSバックエンドオフラインと両立するRRAMデバイスのための酸化インジウムナノ粒子【JST・京大機械翻訳】

Indium-oxide nanoparticles for RRAM devices compatible with CMOS back-end-off-line
著者 (12件):
資料名:
巻: 143  ページ: 20-26  発行年: 2018年 
JST資料番号: H0225A  ISSN: 0038-1101  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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MIM構造中のナノ粒子に基づく抵抗ランダムアクセスメモリ(RRAM)デバイスの作製と特性化について報告した。著者らのアプローチは,不揮発性メモリ(NVM)応用のためのバックエンド-オフライン統合の観点から,CMOS-完全互換性製造プロセスを用いて,誘電体マトリックス中に埋め込まれた酸化インジウム(In_2O_3)ナノ粒子の使用に基づいている。全ての素子に対して電流-電圧測定(I-V)を用いて双極スイッチング挙動を観測した。非常に高いI_ON/I_OFF比を10~8まで得た。著者らの結果は,NVM応用のためのIn_2O_3ナノ粒子ベースのデバイスの更なる統合のための洞察を提供する。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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トランジスタ 

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