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J-GLOBAL ID：201802278000187045   整理番号：18A1981504

レーザを利用した高速CVDによるセラミックコーティングの新展開

Recent Progress of Laser-heated Chemical Vapor Deposition for Novel Ceramic Coatings

著者 (1件)： 伊藤暁彦 (横浜国大)
資料名： 溶射  (日本溶射学会誌)
巻： 55  号： 4  ページ： 170-176  発行年： 2018年10月31日 
JST資料番号： S0589A  ISSN： 0916-6076  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 化学蒸着(CVD)は,比較的高い蒸着速度と優れた段差被覆性を有する種々のコーティングを作製するための実用的技術である。CVDプロセスへの強力なレーザ照射により,自己配向および自己組織化成長を伴うセラミック被覆の高速蒸着を達成できる。CVD条件の最適化により,ほぼ完全なc軸配向α-Al₂O₃膜を多結晶基板上に得た。透明単結晶(100)配向CeO₂膜を,(100)SrTiO₃基板上に,高速エピタキシャル成長により調製した。Al₂O₃-ZrO₂複合膜は,α-Al₂O₃柱状結晶粒内に成長した共晶様組織正方晶ZrO₂ナノ樹枝状晶を示し,高硬度と高断熱性の優れた組合せをもたらした。Ybケイ酸塩膜は,次世代航空機エンジン用のSiC繊維強化SiCマトリックス複合材料に用いられる環境性コーティングおよび界面コーティングとしての候補である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 遮熱コーティング ,  *セラミック被覆 ,  *レーザCVD ,  αアルミナ ,  酸化セリウム ,  複合膜 ,  酸化ジルコニウム ,  複合材料 ,  内燃機関 ,  エピタクシー ,  堆積速度 ,  結晶構造 ,  微細構造 ,  *薄膜成長 ,  自己組織化 ,  共晶
準シソーラス用語： 耐環境性コーティング ,  セラミックコーティング ,  レーザ化学蒸着 ,  正方晶ジルコニア ,  炭化ケイ素繊維強化炭化ケイ素複合材料 ,  航空機エンジン ,  エピタキシャル成長 ,  微細組織

分類 (1件)： 非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K)

タイトルに関連する用語 (4件)： レーザ ,  CVD ,  セラミックコーティング ,  展開