文献

J-GLOBAL ID：201802278971291372   整理番号：18A0181879

Friction and Tribochemical Wear Behaviors of Native Oxide Layer on Silicon at Nanoscale

著者 (6件)： CHEN Lei (Southwest Jiaotong Univ., Chengdu, CHN) ,  XIAO Chen (Southwest Jiaotong Univ., Chengdu, CHN) ,  HE Xin (Pennsylvania State Univ., PA, USA) ,  YU Bingjun (Southwest Jiaotong Univ., Chengdu, CHN) ,  KIM Seong H. (Pennsylvania State Univ., PA, USA) ,  QIAN Linmao (Southwest Jiaotong Univ., Chengdu, CHN)
資料名： Tribology Letters  (Tribology Letters)
巻： 65  号： 4  ページ： 139,1-8  発行年： 2017年12月 
JST資料番号： W1933A  ISSN： 1023-8883  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： NATIVE