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J-GLOBAL ID:201802279460175339   整理番号:18A2043967

仮想的に全ポストエッチ残さを洗浄するために適応可能なカスタマイズされた化学組成【JST・京大機械翻訳】

Customized Chemical Compositions Adaptable for Cleaning Virtually all Post-Etch Residues
著者 (7件):
資料名:
巻: 282  ページ: 121-125  発行年: 2018年 
JST資料番号: T0583A  ISSN: 1012-0394  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
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フッ化水素酸の攻撃性をその良く知られた残留物除去特性とバランスさせることに基づく,エッチング後の残留物洗浄処方を紹介した。高k誘電ベース残留物によって提供される洗浄チャレンジによって動機付けられた一連の研究において,金属と誘電相溶性を維持しながら,酸化タンタルと類似材料のプラズマパターン形成から生じる残留物を成功裏に明らかにする定式化プラットフォームを開発した。さらに,この溶液の基本的な利点は,ブランケット膜の測定とSEMデータによって示されるように,相溶性を犠牲にすることなく,他のより伝統的なエッチング後の残留物の洗浄に拡張できることを示した。Copyright 2018 Trans Tech Publications Ltd. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般 

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