マグネトロンスパッタリングにより作製した硬質Ti(Al,V)N_x膜の構造,微細構造と機械的性質に及ぼすエネルギーの影響【Powered by NICT】

Jaros M.; Musil J.; Cerstvy R.; Haviar S.

文献

J-GLOBAL ID：201802279728764203 整理番号：18A0018950

マグネトロンスパッタリングにより作製した硬質Ti(Al,V)N_x膜の構造,微細構造と機械的性質に及ぼすエネルギーの影響【Powered by NICT】

Effect of energy on structure, microstructure and mechanical properties of hard Ti(Al,V)N_x films prepared by magnetron sputtering

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資料名：
巻： 332 ページ： 190-197 発行年： 2017年
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

その構造,微細構造,機械的性質および割れ性に及ぼすイオンE Biおよび/または高速中性粒子E fnを衝撃により成長膜に与えられるエネルギーの効果について報告した。膜特性に及ぼす全供給エネルギーE=E Bi+E fnの影響を,反応性マグネトロンスパッタリングにより堆積したTi(Al,V)N_x膜で実証した。膜は閉じた磁場を持つ二重マグネトロンによる混合物Ar+N_2ガス中のSi(111)とMo基板上にスパッタし,TiAlV(6at.% Al, 4at.% V)合金ターゲットを装備していた。(1)エネルギーEは物理的及び機械的性質を制御する重要なパラメータ,およびスパッタしたTi(Al,V)N_x膜の割れへの抵抗は,(2)Ti(Al,V)N_x膜の構造はエネルギーEの増加と共にTiN(200)TiNから(220)に変化し,(3)高い比H/E~*≧0.1,高弾性回復W_e≧60%と高密度ボイドフリーミクロ組織をもつTi(Al,V)N_x膜は割れに対する抵抗性増大を示し,十分なエネルギーEは,衝撃イオンや高速中性粒子衝撃により成長する膜に供給される場合にのみ製造することができ,(4)エネルギーE fnは浮遊電位U_s=U_flで開催された誘電体基板上へのスパッタ結晶膜を可能にしていることを示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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その他の無機化合物の薄膜 , セラミック・磁器の性質

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