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J-GLOBAL ID:201802280720357843   整理番号:18A1942058

ナノ秒レーザ修飾シリコンに基づくNIR光検出器【JST・京大機械翻訳】

NIR Photodetector Based on Nanosecond Laser-Modified Silicon
著者 (6件):
資料名:
巻: 65  号: 11  ページ: 4905-4909  発行年: 2018年 
JST資料番号: C0222A  ISSN: 0018-9383  CODEN: IETDAI  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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アルゴン雰囲気中でナノ秒レーザパルスを用いて結晶シリコン(Si)表面を修飾した。レーザ改質Si(M-Si)試料は,従来のSiよりも広帯域(400~2400nm)でより高い性能と熱安定吸収を有していた。M-Si層中のキャリア電子の濃度はSi基板のキャリア濃度より少なくとも5桁大きい。M-Si層とSi基板の間に形成されたN+-N結合を用いて,可視および近赤外(VIS-NIR)M-Si光検出器を作製した。N+-N-フォトダイオードは良好な整流特性を有し,1310nmにおいてサブバンドギャップNIR光に対して高い光応答を示した。同時に,低い逆バイアスでのM-Si光検出器は,バンドギャップより上のVIS-NIR光への大きな利得を示した。900と1310nmの光に対するM-Si光検出器の応答時間を比較することによって,光子上のバンドギャップエネルギーに対する素子の応答速度はより速かった。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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その他の光伝送素子  ,  光導電素子 
タイトルに関連する用語 (4件):
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