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J-GLOBAL ID：201802281710188642   整理番号：18A0524590

13.3kPaでの大気圧プラズマ蒸着により堆積した微結晶シリコン薄膜太陽電池に及ぼすヘリウム濃度の影響【Powered by NICT】

Effects of helium concentration on microcrystalline silicon thin film solar cells deposited by atmospheric-pressure plasma deposition at 13.3 kPa

著者 (5件)： Kwon Jung-Dae (Surface Technology Division, Korea Institute of Materials Science, Changwon, Gyeongnam 641-831, Republic of Korea) ,  Yang Johwa (Surface Technology Division, Korea Institute of Materials Science, Changwon, Gyeongnam 641-831, Republic of Korea) ,  Yang Johwa (School of Energy Systems Engineering, Chung-Ang University, Seoul 06974, Republic of Korea) ,  Park Jin-Seong (Department of Materials Science and Engineering, Hanyang University, Seoul 133-719, Republic of Korea) ,  Kang Dong-Won (School of Energy Systems Engineering, Chung-Ang University, Seoul 06974, Republic of Korea)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 650  ページ： 32-36  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大気圧プラズマ蒸着システムを開発し,μc-Si:H薄膜太陽電池用の真性水素化微結晶シリコン(μc Si:H)薄膜を堆積した。プラズマ中のヘリウム(He)ガス濃度はμc-Si:HのRaman結晶度(X_c),これは光起電力性能を決定する重要パラメータを増加した。さらに,He濃度にX_cの依存性は,膜成長中の原子水素フラックス,その場発光分光法測定から得られたプラズマ診断に密接に関連していることを示した。これらの解析は,印象的な光起電力性能,すなわち,4.60%の電力変換効率,開回路電圧0.52V,13.62mA~2の短絡電流密度,および0.65のフィルファクタ,13.3kPaで非常に高い作動圧力領域下での大気圧プラズマ蒸着を用いて作製したμc-Si:H薄膜太陽電池の最初の実験的実証を達成に寄与した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *太陽電池 ,  プラズマ診断 ,  *薄膜 ,  発光分光法 ,  *プラズマ ,  薄膜成長 ,  光起電力 ,  *ヘリウム ,  水素化 ,  *プラズマCVD ,  結晶度
準シソーラス用語： 短絡電流密度 ,  開回路電圧 ,  *薄膜太陽電池 ,  *微結晶シリコン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 微結晶シリコン ,  太陽電池 ,  プラズマ ,  ヘリウム ,  高圧

分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： 大気圧プラズマ ,  蒸着 ,  堆積 ,  微結晶シリコン ,  薄膜太陽電池 ,  ヘリウム