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J-GLOBAL ID:201802282192428542   整理番号:18A0994657

窒素ドープLaB6底部接触電極を用いたn型ペンタセン系OFETの電子注入

Electron Injection of N-type Pentacene-Based OFET with Nitrogen-Doped LaB6 Bottom-Contact Electrodes
著者 (3件):
資料名:
巻: E101.C  号:ページ: 323-327(J-STAGE)  発行年: 2018年 
JST資料番号: U0468A  ISSN: 1745-1353  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,n型ペンタセン系有機電界効果トランジスタ(OFET)に及ぼす窒素ドープ(N-ドープ)LaB6底部接触電極と界面層(IL)の効果を調べた。底面接触電極に対して縮小したOFETを,フォトリソグラフィーを用いて作製した。RFスパッタリングによりSiO2/n+-Si(100)基板上に20nm厚NドープLaB6底部接触電極を形成し,続いて室温(RT)で硫酸と過酸化水素混合物(SPM),希釈フッ化水素酸(DHF;1%HF)で表面処理を行った。次に,1.2nm厚NドープLaB6ILをRTで堆積した。最後に,10nm厚のペンタセン膜を100°Cで堆積し,続いて熱蒸着を用いてAlバックゲート電極を形成した。表面処理とNドープLaB6ILの効果により,電子注入電流を空気中で観察した。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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トランジスタ  ,  固体デバイス製造技術一般 
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