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J-GLOBAL ID:201802283221279512   整理番号:18A0924474

α-(Al_xGa_1-x)_2O_3バッファ層の導入によるサファイア基板上のGa_2O_3の結晶構造の制御【JST・京大機械翻訳】

Control of Crystal Structure of Ga2O3 on Sapphire Substrate by Introduction of α-(AlxGa1-x)2O3 Buffer Layer
著者 (6件):
資料名:
巻: 255  号:ページ: e1700326  発行年: 2018年 
JST資料番号: C0599A  ISSN: 0370-1972  CODEN: PSSBBD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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アニーリングされたα-(Al_0.4Ga_0.6)_2O_3バッファ層を導入して,サファイア基板上にα-Ga_2O_3またはε-Ga_2O_3成長を達成した。これは,ミスト化学蒸着法を用いて成長温度に依存した。透過型電子顕微鏡法により,ε-Ga_2O_3とα-(Al_0.4Ga_0.6)_2O_3バッファ層の間のエピタキシャル関係はε-Ga_2O_3[1010]||α-(Al_0.4Ga_0.6)_2O_3[110]であり,その結果,二つの六方格子は互いに30°のab面で回転することを明らかにした。バッファ層とε-Ga_2O_3の間の格子不整合は1.2%であるが,バッファ層とα-Ga_2O_3の間の格子不整合は2.2%である。成長温度が600°C以下では,格子不整合が小さいε-Ga_2O_3が生成した。一方,より高い温度はより長い拡散長をもたらし,原子はステップ端に達する。従って,バッファ層と同じ構造を持つα-Ga_2O_3は600°C以上のステップ端に沿って成長した。結果として,ε-Ga_2O_3およびα-Ga_2O_3は,それぞれ600°C以下およびそれ以上で成長した。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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半導体薄膜 
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