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J-GLOBAL ID：201802284139012400   整理番号：18A1724076

酸化に対する抵抗を増強したGeドープマグネタイト薄膜【JST・京大機械翻訳】

Ge-doped magnetite thin films with an enhanced resistance to oxidation

著者 (1件)： Abe Seishi (Research Institute for Electromagnetic Materials, Narita 9-5-1, Miyagi 981-3341, Japan)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 465  ページ： 25-32  発行年： 2018年 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 空気中でのアニーリング中の酸化に抵抗する金属ドープ磁鉄鉱(Fe_3O_4)薄膜の能力を調べた。セラミックFe_3O_4ディスク上にセットした金属チップのターゲットを用いて高周波スパッタリングによりガラス基板上に膜を調製した。本研究で用いた金属元素はGe,Mo,W,Mgであった。膜を空気中で異なる温度でアニールし,酸化の活性化エネルギーを推定した。Geドープ膜は活性化エネルギー490KJ/molの酸化に対して高い安定性を示し,非ドープ膜のそれよりも2.5倍大きかった。エネルギー分散X線顕微鏡(EDX)と制限視野電子回折(SAED)を用いた元素マッピングは,GeドープFe_3O_4膜が少量のGeを含むα-Fe_2O_3とFe_3O_4から成るヘテロ構造から成ることを明らかにした。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： RFスパッタリング ,  *ドーピング ,  X線顕微鏡 ,  セラミック ,  *ゲルマニウム ,  磁鉄鉱 ,  焼なまし ,  活性化エネルギー ,  制限視野回折 ,  円板 ,  *薄膜 ,  エネルギー散逸
準シソーラス用語： ヘテロ構造 ,  元素マッピング ,  ガラス基板 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  磁性材料  (NA04040H) ,  その他の無機化合物の磁性  (BM06060P) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸化 ,  増強 ,  Ge ,  薄膜