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J-GLOBAL ID：201802284356090111   整理番号：18A0910745

高出力パルスマグネトロンスパッタリングにおける低コヒーレンス干渉法による基板温度の非接触測定

Noncontact measurement of substrate temperature by optical low-coherence interferometry in high-power pulsed magnetron sputtering

著者 (4件)： HATTORI Katsuhiro (Meijo Univ., Nagoya, JPN) ,  OHTA Takayuki (Meijo Univ., Nagoya, JPN) ,  ODA Akinori (Chiba Inst. of Technol., Chiba, JPN) ,  KOUSAKA Hiroyuki (Gifu Univ., Gifu, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57  号： 1S  ページ： 01AC03.1-01AC03.5  発行年： 2018年01月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *マグネトロンスパッタリング ,  *プラズマ ,  *基板温度 ,  *非接触測定 ,  *光干渉法 ,  発光スペクトル
準シソーラス用語： *パルスプラズマ

分類 (2件)： 温度測定,温度計  (AD06010K) ,  干渉測定と干渉計  (BD07070G)

タイトルに関連する用語 (7件)： 高出力 ,  パルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  コヒーレンス ,  干渉法 ,  基板温度 ,  非接触測定