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J-GLOBAL ID：201802285098832441   整理番号：18A0149922

反射率と小角散乱解析における一般化された歪対称界面確率分布【Powered by NICT】

Generalized skew-symmetric interfacial probability distribution in reflectivity and small-angle scattering analysis

著者 (3件)： Jiang Zhang (X-ray Science Division, Advanced Photon Source, 9700 South Cass Avenue, Lemont, IL 60439, USA) ,  Chen Wei (Materials Science Division and Institute for Molecular Engineering, Argonne National Laboratory, Lemont, IL 60439, USA) ,  Chen Wei (Institute for Molecular Engineering, University of Chicago, Chicago, IL 60637, USA)
資料名： Journal of Applied Crystallography  (Journal of Applied Crystallography)
巻： 50  号： 6  ページ： 1653-1663  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0631A  ISSN： 0021-8898  CODEN： JACGAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 一般化された歪対称確率密度関数を「有効密度モデルにおける任意の密度プロファイルのパラメータ化のための非対称界面密度分布をモデル化するために提案した。隣接層への密度の浸透は選択的に制御された,パラメータ化することができた。連続密度プロファイルを発生させ,離散一定密度値と鋭い界面をもつ非常に薄い厚さの多くの独立したスライスした。離散化プロファイルはParrattの再帰公式による反射率,または,この研究で開発された同心タマネギモデルによる小角散乱を計算するために用いることができる。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： パラメタリゼーション ,  *確率分布 ,  確率密度関数 ,  *界面 ,  *反射率 ,  モデリング ,  非対称性 ,  密度分布 ,  *小角散乱 ,  *対称性
準シソーラス用語： 離散化 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 界面密度プロフィル ,  roughness ,  反射率 ,  小角散乱 ,  形状因子

分類 (2件)： 構造決定法・回折結晶学一般  (BK01010X) ,  X線回折法  (BK01020I)

タイトルに関連する用語 (7件)： 反射率 ,  小角散乱 ,  解析 ,  歪 ,  対称 ,  界面 ,  確率分布