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J-GLOBAL ID：201802286905149089   整理番号：18A0718486

Cu_2O膜上のCl-誘起不動態破壊の電気化学的測定と原子論的シミュレーション【JST・京大機械翻訳】

Electrochemical measurements and atomistic simulations of Cl^--induced passivity breakdown on a Cu₂O film

著者 (6件)： Wei Xin (Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Corrosion and Protection (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China) ,  Dong Chaofang (Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Corrosion and Protection (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China) ,  Yi Pan (Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Corrosion and Protection (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China) ,  Xu Aoni (Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Corrosion and Protection (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China) ,  Chen Zhanghua (School of Mathematics and Physics, University of Science and Technology Beijing, Beijing, 100083, China) ,  Li Xiaogang (Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Corrosion and Protection (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China)
資料名： Corrosion Science  (Corrosion Science)
巻： 136  ページ： 119-128  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0135B  ISSN： 0010-938X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Cu_2O膜上の不動態破壊の機構を研究した。膜の厚さと成分をEIS,AESおよびXPS分析によって推定した。構造緩和,エネルギー,電子特性及び拡散係数を第一原理計算により計算した。実験と計算の両方の結果は,膜の薄化が浸透過程の代わりに表面へのCl-の吸着によることを示している。内点欠陥はCl-の吸着を容易にし,Cl-の導入は点欠陥の輸送速度を増加させる。理論モデルを提案した。それは局所的破壊にも適用できる。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 点欠陥 ,  浸透 ,  拡散係数 ,  構造緩和 ,  X線光電子分光法 ,  *不動態
準シソーラス用語： 理論モデル ,  輸送速度 ,  第一原理計算 ,  *原子論的シミュレーション ,  *電気化学的測定 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： A.銅 ,  Bモデリング研究 ,  C.塩素化 ,  C.インタフェイス ,  C.受動膜

分類 (2件)： 防食  (WB03040M) ,  腐食基礎理論,腐食試験  (WB03020Q)

タイトルに関連する用語 (5件)： 誘起 ,  不動態 ,  破壊 ,  電気化学的測定 ,  原子論的シミュレーション