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J-GLOBAL ID:201802286933016651   整理番号:18A1301165

抑制内部オーバシュート電流によるSiN_xベース抵抗スイッチングメモリの均一性改善【JST・京大機械翻訳】

Uniformity Improvement of SiNx-Based Resistive Switching Memory by Suppressed Internal Overshoot Current
著者 (7件):
資料名:
巻: 17  号:ページ: 824-828  発行年: 2018年 
JST資料番号: W1355A  ISSN: 1536-125X  CODEN: ITNECU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文で著者らは,SiN_xベースの抵抗メモリ(RRAM)のスイッチング変動性に及ぼす追加の薄いSiO_2層の影響を研究した。著者らは,セット操作で発生した過剰なLRS状態が大きなリセット電流と急激なリセット動作をもたらすことを見出した。急激なリセット操作はHRSの大きな分布をもたらす。スイッチング手順の過渡特性を詳細に調べるために,測定環境を等価回路で実行し,装置から測定した電流を抵抗性メモリセルの容量性と抵抗性電流に分離した。結果として,大きな抵抗分布をもたらす過剰漏れ状態の原因として,セット動作で生じる内部オーバシュート電流を指摘した。最後に,RRAMの内部オーバシュート電流に及ぼす低抵抗状態値(R_LRS)とセル容量(C_DUT)の影響を確認した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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半導体集積回路 
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