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J-GLOBAL ID：201802287147368956   整理番号：18A0507783

フェムト秒レーザ照射を用いたグラフェン酸化物のパターン化と還元【Powered by NICT】

Patterning and reduction of graphene oxide using femtosecond-laser irradiation

著者 (5件)： Kang SeungYeon (School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, MA 02138, USA) ,  Evans Christopher C. (School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, MA 02138, USA) ,  Shukla Shobha (School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, MA 02138, USA) ,  Reshef Orad (School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, MA 02138, USA) ,  Mazur Eric (School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, MA 02138, USA)
資料名： Optics & Laser Technology  (Optics & Laser Technology)
巻： 103  ページ： 340-345  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0245B  ISSN： 0030-3992  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェンはその異常な電子的,光学的,熱的および機械的性質を契機に発見された今までで最も多目的な材料の一つとして出現した。しかし,デバイス作製はよく知られた課題であり,グラフェンベース素子の複雑な集積を実現する新しい作製方法を必要とする。ここでは,波長795nmでのフェムト秒レーザ照射を用いた還元グラフェン酸化物の直接レーザ書込みを実証した。レーザフルエンスとパルス繰返し速度の両方を変えることによってグラフェンへの酸化グラフェンの還元過程の系統的研究を行った。著者らの観察は,減少は熱的および非熱的の両方の特徴を有していることを示し,MHzパルス列または連続波レーザを用いた場合よりもkHzパルス列を用いた良好な分解能と伝導率を達成できることを示唆する。10kHzで書かれた著者らの還元グラフェン酸化物線は非照射対照試料と比較して抵抗率の5桁の減少を示した。本研究では,グラフェン酸化物の還元過程への新しい洞察を提供し,グラフェン層の製造における高度な柔軟性と制御を達成するためのドアを開くものである。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： パルス列 ,  *レーザ ,  *パターン形成 ,  連続レーザ ,  *還元 ,  *グラフェン ,  分解能 ,  機械的性質 ,  柔軟性 ,  *フェムト秒レーザ ,  電気抵抗率
準シソーラス用語： 繰返し速度 ,  レーザフルエンス ,  還元型酸化グラフェン ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (3件)： フェムト秒レーザ ,  グラフェン酸化物 ,  還元