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J-GLOBAL ID：201802287366819349   整理番号：18A1009703

付加重合を用いたブロック共重合体の合成

著者 (1件)： 早川晃鏡 (東京工大 物質理工学院)
資料名： CSJ Current Review  (CSJ Current Review)
号： 29  ページ： 50-57,1(1)  発行年： 2018年05月28日 
JST資料番号： F1106A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・付加重合によるブロック共重合体合成は,連鎖移動や停止反応が無視できる制御ラジカル重合(精密ラジカル重合)により,分子量の制御/狭い分子量分布/組成比を制御/生長末端基の官能化の特徴があり,リビングアニオン重合ほど一次構造が精密に制御された高分子量ブロック共重合体を得るのは容易でないが,適用可能なモノマ種と重合条件の自由度の高さが特徴。
・筆者らが,目的に応じて各種の機能性モノマの精密ラジカル重合やリビングアニオン重合による以下事例を概説(液晶分子を有するスチレン誘導体の精密ラジカル重合と階層構造,微細加工用レジストへのかご形シルセスキオキサン(POSS)含有メタクリレートのリビングアニオン重合と精密ラジカル重合,環状シロキサンモノマの開環アニオン重合)。

シソーラス用語： *ラジカル重合 ,  *比較 ,  *リビングアニオン重合 ,  側鎖型高分子液晶 ,  オレフィン化合物 ,  芳香族化合物 ,  階層構造 ,  *ブロック共重合体 ,  *ミクロ相分離 ,  微細加工 ,  レジスト ,  ポリメタクリル酸エステル ,  有機ケイ素化合物 ,  シロキサン ,  開環重合
準シソーラス用語： かご型シルセスキオキサン ,  スチレン誘導体 ,  環状シロキサン ,  *制御ラジカル重合 ,  *精密ラジカル重合

分類 (3件)： 共重合  (CG04030D) ,  重合触媒,重合開始剤  (CG04070V) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (2件)： 付加重合 ,  ブロック共重合体