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J-GLOBAL ID:201802287602605514   整理番号:18A1561570

X線光電子分光法による高分子材料の表面分析と解析

著者 (2件):
資料名:
巻: 64  号:ページ: 331-338  発行年: 2018年08月20日 
JST資料番号: G0309A  ISSN: 0452-9685  CODEN: KYPUA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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・X線光電子分光法(XPS)を用いた高分子材料の表面分析によって得られる知見について,既往の論文や総説を紹介しながら解説。
・XPSの原理と特徴,試料の保存と測定に向けた準備,ワイドスキャンスペクトルと存在元素の同定などについて説明。
・ナロースキャンスペクトルの測定における化学シフトと結合状態について述べ,化学シフトを利用した代表的な高分子の化学構造の解析をC1sスペクトルから説明。
・波形分離によって官能基の種類を明確に区別することが困難な場合の化学修飾法による官能基の同定,光電子の平均自由行程と検出深さ,脱出角度を変えた深さ分析について説明。
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分類 (2件):
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電子分光法  ,  高分子のスペクトル 
引用文献 (42件):
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